国产自研芯片设备新突破！覆盖90-28nm，已交付头部晶圆厂

御微半导体发布Raptor-600掩模图形缺陷检测设备

先说一个重磅消息：国产半导体设备领域又有新突破。御微半导体近日宣布，其全新自研的国内首款可完整覆盖90nm至28nm制程节点的掩模图形缺陷检测设备Raptor-600，已正式发运国内头部晶圆厂。

掩模版，说白了就是芯片光刻环节的“核心母版”。它的品质直接决定了整片晶圆的生产良率，哪怕是一个微小的缺陷，都有可能导致整批晶圆报废。所以，这个环节的重要性不言而喻。

520天完成从立项到出机全流程闭环

从时间线来看，御微半导体的进展相当惊人。2025年初，初代机型Raptor-500才刚交付，而到了现在，仅用了520天，就从立项到出机完成了全流程的闭环。Raptor-600针对的是28nm及以上制程的严苛检测标准，为单价数万至数十万美元的高端掩模版筑牢了品质防线。

核心技术亮点：高分辨率透反射双光路紫外成像系统

这台新设备的核心技术亮点在于，它搭载了自研的高分辨率透反射双光路紫外成像系统。这套系统可以同步捕捉各类影响掩模及光刻良率的缺陷，同时配备了纳米级高精度运动平台，确保检测定位的微米级稳定精度。再加上配套的超大图像并行计算引擎，缺陷识别速度和适配性都得到了大幅提升。

具体来说，Raptor-600能够分辨精细图形，有效规避辅助图形的干扰，快速检出图形缺损、表面污染物等典型问题。而且，它同时适配掩模制造厂和晶圆厂两大场景，能够满足全流程的品质管控需求。

团队评价与行业意义

御微半导体总裁王帆表示，Raptor-600是公司自主创新历程中的重要里程碑，填补了国内高端掩模图形缺陷检测设备在90nm至28nm制程节点的关键空白。公司副总裁孙刚回顾了从立项到出机的技术攻关历程，产品事业部总经理王伟则透露，各团队在光电、机电、算法、软件、测试等领域日夜拼搏，才确保了整机性能的全面跃升。